FIIN07-09: 904130021 Obtención y caracterización de laminas delgadas y materiales nanoestructurados

Programa de doctorado Física e Informática
Bienio 07-09

Asignatura

Código 904130021
Nombre Obtención y caracterización de laminas delgadas y materiales nanoestructurados
Créditos 3,00
Tipo Fundamental orientación Física de Materiales
Profesorado
ProgramaIntrodución, Procesos de deposición y ataque de láminas delgadas.Descargas gaseosas(plasma) como método de deposición y ataque.Procesos de evaporación térmica.Epitaxia de haces moleculares MBE.Aplicaciones del sputtering a la deposición y ataque de láminas delgadas.Formación de láminas delgadas por ataque y deposición química.Determinación de la estructura de láminas delgadas.Propiedades ópticas de láminas delgadas.Características eléctricas de las láminas delgadas.Propiedades mecánicas de las láminas delgadas.Aplicaciones.Prácticas de laboratorio obtención y caracterización.
ObjetivosFamiliarizar al alumno con la caracterización de medios anisótropos y medios isótropos inhomogéneos mediante la utilización de técnicas ópticas.
Bibliografía
  • "Handbook of thin film technology". L.I.Maissel y R.Glang. McGraw-Hill Book Company. 1970. Library of Congress Catalog Card Number 73-79497
  • "Thin Film Processes" J.L.Vossen y W.Kern. Academic Press, Inc. 1978. ISBN 0-12-728250-5
  • "Thin Film Processes II" J.L.Vossen y W.Kern. Academic Press, Inc. 1991. ISBN 0-12-728251-3
  • Journal of Physics:Condensed Matter Vol14, Nº35 Pp 8153-8414 (2002) Special issue on Nanostructured Surfaces.
  • "Absorption and scattering of Light by Small Particles" C.F.Bohren y D.R.Huffman. Wiley Professional Paperback Editions Published 1998. ISBN 0-471-29340-7
  • "Optical properties of thin solid films" O.S.Havens. Dover publications Inc. 1991. ISBN0-486-66924-6
MetodologíaSe combinarán clases teóricas sobre las técnicas de caracterización con experiencias de laboratorio obteniendo láminas delgadas de silicio poroso mediante procesos químicos y electroquímicos para su posterior caracterizaciòn morfológica mediante microscopía electrónica SEM y TEM, posteriormente se realizará su caracterización óptica (fotoluminiscencia, camino óptico, etc.).
EvaluaciónLa evaluación constara de dos partes: 1) Examen sobre las técnicas de obtención y caracterización. 2) Trabajo práctico de obtención y caracterización tutorizado.
RequisitosConocimientos básicos de electromagnetismo, física cuántica, Óptica y física del estado sólido.
Observaciones
Página Web
Horario Clases:
  1. Martes 29/ 01/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Acústica, Herramientas y Lenguajes de Programación)
  2. Viernes 01/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Criptología y Seguridad Informática, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D)
  3. Miércoles 06/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Criptología y Seguridad Informática, Herramientas y Lenguajes de Programación, Metaheurísticas, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D)
  4. Viernes 08/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Criptología y Seguridad Informática, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D)
  5. Miércoles 13/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Acústica, Computación de altas prestaciones, Criptología y Seguridad Informática, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
  6. Viernes 15/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Computación de altas prestaciones, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
  7. Viernes 22/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Computación de altas prestaciones, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
  8. Miércoles 27/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Acústica, Computación de altas prestaciones, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
  9. Viernes 29/ 02/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
  10. Lunes 03/ 03/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Computación de altas prestaciones, Técnicas de Caracterización Óptica de Materiales)
  11. Jueves 06/ 03/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Acústica, Computación de altas prestaciones, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas)
  12. Lunes 10/ 03/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Fundamentos y Tecnología en Fotónica)
  13. Jueves 13/ 03/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Fundamentos y Tecnología en Fotónica, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas)
  14. Lunes 24/ 03/ 2008 de 09:00 a 10:00
  15. Martes 25/ 03/ 2008 de 09:00 a 12:30 (Colisiona con: Fundamentos de dispositivos semiconductores, Sistemas dinámicos no lineales: aplicaciones en ingenieria y sistemas naturales)
  16. Miércoles 26/ 03/ 2008 de 09:00 a 10:00
  17. Jueves 27/ 03/ 2008 de 09:00 a 10:00 (Colisiona con: Técnicas de Caracterización Óptica de Materiales)
  18. Viernes 28/ 03/ 2008 de 09:00 a 10:00 (Colisiona con: Sistemas dinámicos no lineales: aplicaciones en ingenieria y sistemas naturales)
  19. Martes 01/ 04/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Fundamentos y Tecnología en Fotónica, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas)
  20. Miércoles 02/ 04/ 2008 de 18:00 a 19:00 (Colisiona con: Fundamentos y Tecnología en Fotónica, Sistemas de adquisición y comunicaciones)
  21. Lunes 07/ 04/ 2008 de 09:00 a 10:00
  22. Martes 08/ 04/ 2008 de 09:00 a 12:30 (Colisiona con: Fundamentos de dispositivos semiconductores)
  23. Miércoles 09/ 04/ 2008 de 09:00 a 10:00
  24. Jueves 10/ 04/ 2008 de 09:00 a 10:00
  25. Viernes 11/ 04/ 2008 de 09:00 a 10:00 (Colisiona con: Técnicas de Caracterización Óptica de Materiales)